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Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。垂直火炬,雙向觀(guān)測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍和更低的背景。自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長(cháng)期穩定性。

產(chǎn)品廠(chǎng)地:合肥市
更新時(shí)間:2024-05-20
廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
訪(fǎng)問(wèn)量:3106

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Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。

垂直火炬,雙向觀(guān)測,冷錐消除尾焰,具有更寬的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍和更低的背景。

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩定,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長(cháng)期穩定性。

高速面陣 CCD 采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線(xiàn)信息,實(shí)現“全譜直讀”。

功能強大的軟件系統,簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程。應用工程師加入設計團隊,為用戶(hù)量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗。

分光系統

徑向觀(guān)測與軸向觀(guān)測設計,適應亞 ppm 到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構,使用 CaF2 棱鏡,提高光路傳輸效率。 優(yōu)化的光學(xué)設計,采用非球面光學(xué)元件,改善成像質(zhì)量,提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術(shù),縮短光室充氣時(shí)間,提高紫外光譜靈敏度及穩定性,開(kāi)機即可測量。 包圍式立體控溫系統,保障光學(xué)系統長(cháng)期穩定無(wú)漂移。

 光源

固態(tài)射頻發(fā)生器,高效穩定,體積小巧,效率高,匹配速度快,能適應各種復雜基體樣 品及揮發(fā)性有機溶劑的測試,均能獲得長(cháng)期穩定性。 垂直炬管的設計,具有更好的樣品耐受性,減少了清潔需求,降低了備用炬管的消耗。 冷錐消除尾焰技術(shù),降低自吸效應和電離干擾,從而獲得更寬的動(dòng)態(tài)線(xiàn)性范圍和低背景,保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式,待機時(shí)降低輸出功率,減小氣體流量,僅維持等離子體運行,節約使 用成本。

簡(jiǎn)潔的炬管安裝定位設計,快速定位,精確的位置重現。 實(shí)時(shí)監控儀器運行參數,高性能 CAN 工業(yè)現場(chǎng)總線(xiàn),保障通訊高效可靠。

 進(jìn)樣系統

簡(jiǎn)潔的炬管安裝設計,自動(dòng)定位炬管位置,精確的位置重現。 儀器配備系列經(jīng)過(guò)優(yōu)化的進(jìn)樣系統,可用于有機溶劑、高鹽 / 復雜基體樣品、等樣品的測試。

使用可拆卸式或一體式炬管,易于維護,轉換快速,使用成本低。 使用質(zhì)量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量,保障測試性能長(cháng)期穩定。 多通道 12 滾輪蠕動(dòng)泵,提升樣品導入穩定性。

 

檢測器

大面積背照式 CCD 檢測器 , 全譜段響應,高紫外量子化效率,抗飽和溢出,具有極寬的動(dòng)態(tài)范 圍和極快的信號處理速度。 一次曝光,完成全譜光譜信號的采集讀取,從而獲得更為快速、準確的分析結果。 同類(lèi)產(chǎn)品中大靶面尺寸,*像素,單像素面積 24μm X 24μm,三級半導體制冷 , 制冷溫 度 低,具有更低的噪聲和更好的穩定性。

 

軟件系統

人性化的界面設計,流暢易懂,簡(jiǎn)便易用,針對分析應用優(yōu)化的軟件系統,無(wú)須復雜的方法開(kāi)發(fā), 即可快速開(kāi)展分析操作。

豐富的譜線(xiàn)庫,智能提示潛在干擾元素,幫助用戶(hù)合理選擇分析譜線(xiàn)。 輕松的觀(guān)測方式設置,直觀(guān)的測試結果顯示。

 

安全防護

*電磁屏蔽,減少電磁輻射 連鎖門(mén)保護,避免用戶(hù)誤操作可能帶來(lái)的風(fēng)險 防紫外觀(guān)測窗

分析性能

檢    出    限:亞 ppb- ppb 短期穩定性:RSD ≤ 0.5%(1mg/L) 長(cháng)期穩定性:RSD ≤ 1.0%(4h,1mg/L)

 

光 源

自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,功率連續 1 瓦可調 震蕩頻率:27.12MHz

輸出功率:700W-1600W 功率穩定性:< 0.1%

 

Plasma 3000雙向觀(guān)測全譜ICP光譜儀儀器規格

尺 寸:寬 x 深 x 高(106cm x 67cm x 75cm) 重 量:約 180kg

光學(xué)系統

分析譜線(xiàn)范圍:165-950nm

分  辨  率: 0.007nm@200nm 光室恒溫:38℃ ±0.1℃

CCD 像素:1024x 1024

單像素面積:24μm x 24μm

 

工作環(huán)境

實(shí)驗室濕度環(huán)境:相對濕度 20%~80% 氬氣純度:不小于 99.95%

排 風(fēng):不小于 400 立方米 / 小時(shí)

電 源:200V~240V AC 單相;50Hz~60Hz;4kVA

 

 

 

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