X熒光光譜儀是將光打到樣品上時(shí)，樣品分子會(huì )使入射光發(fā)生散射，若部分散射光的頻率發(fā)生改變，則散射光與入射光之間的頻率差稱(chēng)為拉曼位移。本儀器主要就是通過(guò)拉曼位移來(lái)確定物質(zhì)的分子結構，針對固體、液體、氣體、有機物、高分子等樣品均可以進(jìn)行定性定量分析。因此，與紅外吸收光譜類(lèi)似，對拉曼光譜的研究，也可以得到有關(guān)分子振動(dòng)或轉動(dòng)的信息。目前該技術(shù)已廣泛應用于物質(zhì)的鑒定、分子結構的研究。

 

　　盡管X熒光光譜儀具有很高的精度，但是由于許多因素的影響，仍然存在一定的誤差，那么如何才能巧妙地避免本儀器的誤差呢？

 

　　1、系統誤差的來(lái)源

 

　?。?）當標準樣品和樣品的含量和化學(xué)組成不相同時(shí)，可能會(huì )導致矩陣線(xiàn)和分析線(xiàn)的強度發(fā)生變化，從而引入錯誤。

 

　?。?）當標準樣品的物理性質(zhì)和樣品的物理性質(zhì)不相同時(shí)，激發(fā)的特征譜線(xiàn)將不同，這將導致系統誤差。

 

　?。?）當處于澆鑄狀態(tài)的鋼樣品的金屬結構與處于退火，淬火，回火，熱軋和鍛造狀態(tài)的鋼樣品的金屬結構不同時(shí)，測得的數據將有所不同。

 

　?。?）未知元素光譜的重疊干擾。例如，在熔煉過(guò)程中添加脫氧劑和脫硫劑時(shí)，未知的合金元素會(huì )混入系統中，從而導致系統誤差。

 

　?。?）為了消除系統誤差，有必要嚴格遵守標準樣品制備的要求。為了檢查系統錯誤，有必要使用化學(xué)分析方法來(lái)分析多次校對的結果。

 

　　2、偶然誤差的來(lái)源

 

　　與樣品成分不均勻有關(guān)的誤差。由于光電光譜分析消耗的樣品很少，因此樣品中元素分布的不均勻性和組織結構的不均勻性會(huì )導致不同部位的分析結果不同，并偶爾出現誤差。

 

　?。?）在熔煉過(guò)程中引入夾雜物，導致偏析導致樣品中元素分布不均。

 

　?。?）樣品的缺陷，氣孔，裂縫，水泡等。

 

　?。?）諸如交叉研磨模式，樣品研磨的過(guò)熱，樣品研磨表面的時(shí)間過(guò)長(cháng)以及指紋等因素。

 

　?。?）為了減少意外誤差，必須仔細取樣以消除樣品的不均勻性和樣品的鑄件缺陷。也可以重復分析幾次以減少分析誤差。